汝成：“卢总，数控分，你们能解决吧！”

接式是以前的老方法，缺太大，我就不讲了。聚焦式虽然更先，但难度也最大，我们目前还没有这个需要，可以为以后的研究课题。为了赶时间，我打算这次就采取非接式，符合我们目前的制程工艺，最度可以达到二十纳米以内，目前来讲完全足够了。相反，我们的片设计还没赶上来，这次就只试制十六位元的片，度只要达到u米级就够了，洪所长你们扯后了啊！”郭东又开了洪涛的玩笑，不过这却是实情。洪涛也很无奈，片设计很复杂，需要大量的熟练人手。跟老板说得一样，要设计纳米级片，至少得有几千熟练电工程师，否则想都不要想。

“洪所长这个主意很好，这样电图形缩小就没问题了。”卢汝成对洪涛的办法不由拍案叫绝。

“没问题，这个数控系统比数控机床简单多了，只有几个直线动作和机械臂的输送动作的协调，我们几天就可以解决，只是数据采集要时间，我打算要学员们，让他们历练历练。”卢汝成表示很简单，他还打算只要学员们，当然他们得把关。

“也只有你才知国外是怎么搞的，我们从来都是自己搞自己的，不也很好吗？只要我们达到了目的就够了。”

这时洪涛也获得了灵，因此接过了话说：“我打算采用晶投影技术，晶是一分级别的化合，只要我们技术足够，那么控制度可以无限小，我相信它能够很好的解决1:1电图形缩小问题。我们就不走国外那老路了，那样太复杂，而且度不够。”

“没问题。自从研究光刻胶以来，我们已经研究多光刻胶了。都是分别针对不同的质，给掩模板用的光刻胶，我们已经研究来了。效果怎么样？要试试才知。”王波给予了肯定的回答。

“王所长，这你们能解决吧！”洪涛先给郭东解释了晶原理，然后又问王波。

…

不过我们必须研究一，对光非常的光刻胶。在化学蚀刻的时候，又能有效的保护未被光照的镀铬层。”

“这样我们是不是可以取消掩模板呢？”

“那就好，你们没问题，就真的没问题了。我先和大伙说说我对光刻机的设想，据我所知，光刻机据曝光方法的不同分为：接式、非接式和聚焦式三。

“那太好了，那我们就试试吧！”郭东激动的说

“好啦！既然老板已经批评了，我们就不批评你了。”郭东又小小的开了一记玩笑，然后正式说：“非接式光刻的技术要就是激光、掩模板还有基片要无限接近，最好只相差几个纳米，这样才能保证最大的度。这是属于一1:1投影技术或者说光刻技术，对掩模板的制作要求非常，卢总，能不能将设计图行电图缩小？而不是光学缩小？”

这时王波也话说，他对国外是怎么搞的是真不懂，他的话没有半句份。

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“理论上是可以的，我们尽量想办法，也就是说我们本不搞纸质图纸了，直接用电图纸投影曝光？”涉及到他的专业，卢汝成想也没想就回答了。

“当然不行，不能代替掩模板，因为晶屏是通过光的偏振原理，来实现图像显示的。它本就不可能实现，度光刻，不过我们可以试一试，让晶屏代替光刻机，给掩模板显影电图形，如果能够到，也是一了不得的步，能节省很多步骤。

由于这次用途的特殊原因，他们不需要复杂的晶技术，只需要第一代晶技术，即tnlcd。就是简单的黑白屏，白光就是电路图，如果掩模板与晶屏隔得足够近的说，也可以留下满意的电路图形。

郭东提了一个大胆的设想。

还有一与普通的晶屏不同，这里的背景光源是光源，他不是给人看的，而是专为掩模板曝光的。

想到这些，洪涛接过话说：“目前我们只能设计一些简单的片，连32位元的片都要大量时间才行，至少一年计，我们的熟练人手太少了，实在没办法。老板也知我们是短板，因此我还被老板批过。唉！”

当然缺也很明显，由于晶分的大小原因，度不够，因此不适合纳米级片技术，这是他们后来经过实验，才明白这个理的。